silicon-wafer_R

1: ポドフィロトキシン(三重県) [VE] 2021/03/29(月) 15:22:14.01 ID:RynYSTpl0● BE:789862737-2BP(2000)
2nmプロセスが日本で出ています!長年蓄積されたこの強さ、強すぎる

日本の半導体業界に関して言えば、業界のほとんどの人は自分たちの長所と短所を十分に理解しています。
利点の点では、それらの半導体機器、材料、受動部品、無線周波数、さらにはパワーデバイスは世界最高です。
たとえば、現在人気のある第3世代半導体、5G無線周波数、EUVフォトレジストでは、他の競合他社にはない利点があります。

2nmの戦い

彼らはキヤノン、東京エレ、SCREENなどの地元の大手機器メーカーとも協力して活性化する日本の高度な研究開発を行います。
報道によると、経済産業省からの資金援助を受けるべきこの研究開発チームは、2020年代半ばに2nm以降の次世代半導体の製造技術を確立し、開発するためのテスト生産ラインを設置することを目指しています。微細回路の加工や洗浄などの製造技術。

日本には工場はありませんが、高度なプロセスの上流工程で非常に重要な立場を持っています。ホットEUVリソグラフィーを例にとると、オランダの会社ASMLが世界をリードするEUVリソグラフィーマシンを提供できることは誰もが知っています。

これまでの半導体業界の観察報告では、この分野の複数のリンクで日本企業の強みを見ることができます。

(続きはこちら)
https://news.mydrivers.com/1/747/747197.htm

8: パリビズマブ(北海道) [ヌコ] 2021/03/29(月) 15:25:50.73 ID:FPHTHVL70
またすぐ外国に売らんやろな?


35: アメナメビル(茸) [ニダ] 2021/03/29(月) 15:44:24.78 ID:4rDx/bnZ0
中韓「ちょっと見学させて」

13: ダサブビル(栃木県) [US] 2021/03/29(月) 15:29:05.89 ID:9lkD5PWU0
EB露光とかLEEPLとかいつの間にか滅びたよな

46: ジドブジン(東京都) [EU] 2021/03/29(月) 15:52:06.26 ID:PrJNkY1L0
>>13
流石に次の世代はEB直描じゃね?

114: ダサブビル(栃木県) [US] 2021/03/29(月) 17:14:18.29 ID:9lkD5PWU0
>>46
同じ事15年前から言われてたんよ

28: リトナビル(東京都) [US] 2021/03/29(月) 15:40:55.95 ID:kkmfIKpd0
専門家の俺にいわせると、2nmだとトンネル効果で電子が回路を突き抜けるから無理だよ

58: アタザナビル(東京都) [US] 2021/03/29(月) 16:05:08.52 ID:hAgEvp2V0
>>28
オレもそう思ってたしIBMなんか溝(物理)掘って
トンネル効果起こらないように苦肉の策してたころもあったのにな
今後どの辺りが限界になってくるんだろ

63: ポドフィロトキシン(東京都) [US] 2021/03/29(月) 16:10:00.16 ID:TeVqrBtF0
分子1個分より小さい幅でどうやって絶縁するんだ

48: バラシクロビル(神奈川県) [DE] 2021/03/29(月) 15:53:20.61 ID:pW3eVqg10
2nmだの5nmだのほんとかよ
そんな技術立国でニコンは潰れそうなのかよ

97: アバカビル(宮城県) [US] 2021/03/29(月) 16:42:32.29 ID:FwNEDj7p0
あれっ?ニコンはステッパーやめたの?

50: パリビズマブ(北海道) [US] 2021/03/29(月) 15:53:57.67 ID:dU+VwEx70
ねぇ、なんで日本のこういうニュースを中国記事で知らにゃならんのよ

51: ジドブジン(神奈川県) [US] 2021/03/29(月) 15:55:28.83 ID:6+T4Fd8z0
先端スキャナを作ってるのは世界でASMLのみ
ニコンもキャノンも先端スキャナ撤退して、旧世代用やら、液晶・有機EL製造用やらを作ってる

62: ソホスブビル(SB-iPhone) [US] 2021/03/29(月) 16:09:07.38 ID:Nly2Mt6y0
キヤノンにEUV使う技術はないぞ
そのかわりナノインプリントとかいうハンコみたいな技術を使う

従来の光で焼き付ける方式じゃないから実寸大のマスクを作らないといけなくてそれがクソ高いし歩留まりもまだ悪い

この分野だとASML一強でしょ

88: ネビラピン(茸) [US] 2021/03/29(月) 16:28:26.17 ID:WjioohH60
キオクシアのキャノンの露光機
インクジェット方式だよな

66: アデホビル(岩手県) [CN] 2021/03/29(月) 16:10:48.41 ID:lrhCQwgx0
AMSLみたいな位置づけ狙ってんのか

69: イスラトラビル(長野県) [US] 2021/03/29(月) 16:12:12.47 ID:0bgpEem+0
ASML製のEUVは買うんでしょ
もう微細工程のEUVは国内企業完全撤退したし

85: イノシンプラノベクス(京都府) [US] 2021/03/29(月) 16:27:28.66 ID:N4daNTT40
なんでASMLだけはEUV実用化できたんや

96: ドルテグラビルナトリウム(茸) [GB] 2021/03/29(月) 16:38:46.19 ID:fD5zcITV0
>>85
密度高いと昇華して汚染されるから
あまりやりたくないんだろうね
カバー
https://jp.mitsuichemicals.com/jp/release/2019/2019_0531_01.htm

68: ホスフェニトインナトリウム(ジパング) [US] 2021/03/29(月) 16:12:07.56 ID:hW+tOm8P0
7nmだの14nmだの
nmが低いと何が良いのか未だ謎

128: テノホビル(富山県) [ニダ] 2021/03/29(月) 17:39:56.66 ID:E6GdT+kD0
>>68
同等の回路の書き込みが、小さい面積で済むなら、使う半導体の量も減ったり
性能も上がる?

132: アタザナビル(会社) [CN] 2021/03/29(月) 17:44:55.71 ID:FO5wvH7f0
>>128
おおよそ当たり。単に小さい面積で集積化できるという事は、
電子の移動距離が短くなるので処理性能が上がり、消費電力が減り、
1枚のウェーハから(同一性能ならば)たくさんのチップが取れるので
コスパが良くなって歩留まりが向上する。

74: イスラトラビル(長野県) [US] 2021/03/29(月) 16:16:15.06 ID:0bgpEem+0
結局は微細化していけば
1つのウェハーから取れる量が増えて
コストが大幅に抑えられる
TSMCは5nm
サムスンは7nm
インテルは10nm以下を成功させてる

94: ホスカルネット(庭) [AU] 2021/03/29(月) 16:34:28.83 ID:yQzJy8mu0
>>74
と思うじゃん?

微細化の開発費がやばいから逆にコスパ悪いという

117: エムトリシタビン(茸) [US] 2021/03/29(月) 17:16:40.32 ID:ENTNn1ln0
駄目駄目言われてるけど意外とまだ凄いんか日本って

136: インターフェロンα(愛知県) [US] 2021/03/29(月) 18:07:51.28 ID:4E/3eqQy0
構想だけじゃねーか

143: ラニナミビルオクタン酸エステル(やわらか銀行) [US] 2021/03/29(月) 18:17:26.82 ID:XSE6+ey40
アップルのロードマップだと2025年に2nmチップ出来てる予定なんだよな

145: インターフェロンα(東京都) [US] 2021/03/29(月) 18:20:13.59 ID:mkFap+tg0
なんかもう分子サイズのトランジスタが出来そうな勢いやな

157: ビクテグラビルナトリウム(ジパング) [US] 2021/03/29(月) 18:37:10.14 ID:GIymQERQ0
でも10年ほど前とはシェアが大分変わってきてることからしても、10~20年すればここに載ってる会社もあらかた落ちぶれる

169: パリビズマブ(東京都) [ヌコ] 2021/03/29(月) 19:03:17.59 ID:gOob/LvJ0
インテル486時代は1μmだったのが20年かそこらで1/500まで細くなったんか

188: ロピナビル(福島県) [DK] 2021/03/29(月) 20:27:14.71 ID:WznvUSTF0
EUVじゃ10数ナノが限界じゃないの?
回折限界超えられるのか?

201: ビクテグラビルナトリウム(茸) [US] 2021/03/29(月) 21:59:05.09 ID:TF/vFWde0
>>188
液浸でもやってたけど位置をズラしながら複数回の露光を行うマルチパターニングをやってる

194: リトナビル(東京都) [US] 2021/03/29(月) 21:02:55.28 ID:RQfMr7Yh0
最近はゲート長がプロセスルールに比例して微細化するのではないと聞いたんだが
それだとプロセスルールを小さくするモチベーションはどこにあるの?
ゲート長が縮まないだけで、その他配線を細くできるから結果として同じダイサイズだとトランジスタ密度が上げられるってこと?

202: ビダラビン(光) [NO] 2021/03/29(月) 22:04:04.43 ID:Si609iPf0
実際のところは2nmで作っても、出来上がりの半分位は6nmとかになるんじゃないの?

124: ダサブビル(東京都) [KR] 2021/03/29(月) 17:24:41.70 ID:abW70clm0
今のプロセスルールって商品名でしかないのになぁ・

191: アデホビル(兵庫県) [ニダ] 2021/03/29(月) 20:36:42.67 ID:B4mY4WVn0
官主導で開発とかエルピーダメモリを彷彿させるわ。

163: パリビズマブ(愛知県) [CO] 2021/03/29(月) 18:48:21.80 ID:SRFccUA90
米「できたか?」
日「はい」

209: ファムシクロビル(SB-Android) [US] 2021/03/30(火) 13:21:09.72 ID:4b+g0Hcx0
先端技術開発しても量産が下手だからな~

205: オムビタスビル(茸) [CO] 2021/03/30(火) 02:02:39.10 ID:yc6IMsyE0
2025年ぐらいにしかも目指すだけかい
生産に入ったのかと思ったぜ

82: アバカビル(神奈川県) [BE] 2021/03/29(月) 16:25:23.51 ID:EEi0Hic30
こういう最先端というか安全保障上重要な分野の研究開発だけでもライフワークバランスとかお花畑の論理で足枷を掛けるんじゃなくて、思いのままに没頭できる環境にして欲しいわ。

197: ラニナミビルオクタン酸エステル(東京都) [PT] 2021/03/29(月) 21:11:03.35 ID:npE0eBcD0
半導体の製造プロセスの数字ってけっこういい加減みたいだからな
まあ好調なのは良いことだよ
国内でも製造できると良いんだけどね
引用元:https://hayabusa9.5ch.net/test/read.cgi/news/1616998934/